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科研型等离子光刻胶剥离设备 :
型号: ER-100
适用于聚合物剥离 ，光刻胶剥离，高剂量离子注入后光刻胶的去除,蚀刻后光刻胶剥离，descum等工艺，广泛应用于功率芯片、逻辑芯片，CMOS, MEMS, 氮化镓、砷化镓、磷化铟等领域，想了解更多可联系！
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