ATOM Single Platen CMP

ATOM 系列单盘化学机械抛光机是一款用于晶圆表面抛光的设备。
其性能优越，操作简单，设备占用空间小等优点。适用于硅基、
化合物基衬底及其上表面绝大部分膜层的抛光。
⚫ 设备灵活，可支持多种Head
⚫ 设备工艺能力接近同尺寸产品的主流机型水准
⚫ 设备片间工艺一致性好
⚫ 可与Cleaner整合成干进干出使用或Stand Alone使用

应用领域
⚫ 4-8英寸 STI、ILD/IMD、TSV、TGV抛光及SiC、GaN、LT、
LN、GaAs等化合物表面抛光

技术参数
⚫ 4寸、6寸、8寸Head，气囊式多区控制
⚫ Type Of Φ20 inch 508mm Platen
⚫ Head 气压控制精度<0.1psi
⚫ Head、Platen转速控制精度<1rpm